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특허의 대상은 “발명” 이며,
특허법상 발명이란 “자연법칙을 이용한 기술적 사상의 창작으로서 고도한
것” 을 의미합니다. 즉 현재까지 존재하지 않았던 새로운 구조의 물건, 새로운 성질을 갖는 물질
또는 새로운 기술과 순서로 구성된 제조방법 또는 처리방법 같은 기술적인 창작물이 그 보호대상이 됩니다.
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휴대폰 분야를 예로 들면, 통신신호의 처리방법이나 처리장치, LCD 의 구조나 재료조성 등이 출원대상이
될 수 있습니다.
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특허권의 보호대상은 점차 확대되는 추세이며, 최근에는 컴퓨터 및 통신분야의 기술을 이용한 영업방법(BM
: Business Model)까지 특허권의 보호를 받게 되었습니다. |
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실용신안의 대상은 “고안” 이며,
실용신안법상 고안이란 “자연법칙을 이용한 기술적 사상의 창작”
을 의미합니다. 즉, 실용신안권의 보호대상은 특허권의 보호대상과 기본적으로는 동일하지만 기술적인 고도성이 요구되지
않으므로 특허보다는 기술적 내용이 간단하면서도 라이프 사이클이 비교적 짧은 물건의 형상, 구조, 조합에 대한
기술적인 창작물이 그 보호대상이 됩니다.
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휴대폰 분야를 예로 들면, 통신신호의 처리방법이나 처리장치, LCD 의 구조나 재료조성 등이 출원대상이
될 수 있습니다.
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| 구분/분류 |
특허 |
실용신안 |
| 보호대상 |
아직까지
없었던 물건 또는 방법을 최초로 발명한 것(대발명) |
물건에
대한 간단한 고안(소발명)이나 이미 발명된 것을 개량해서 보다 편리하고 유용하게 쓸 수 있도록
한 물품에 대한 고안 |
| 권리취득기간 |
출원일로부터
약2년~2년6개월 |
출원일로부터
3개월 |
| 심사여부 |
특허등록요건에
대한 심사
(심사청구시) |
설정등록후
기술평가신청이 있는
경우에만 등록요건 심사 |
| 권리존속기간 |
설정등록후
출원일로부터 20년 |
설정등록후
출원일로부터 10년 |
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동일한 기술내용에 대하여 특허출원과 실용신안등록출원을
동시에 하고, 모두 등록되는 경우 하나의 출원을 포기하게 하는 “이중출원” 제도가 있습니다. 이중출원을 하는
경우, 비교적 심사기간이 짧은 실용신안권을 통해 기술내용에 대한 권리를 조속히 확보할 수 있으며 권리존속기간이
긴 특허권을 통해 장기간 기술내용에 대한 권리를 보호받으실 수 있습니다.
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